UE 5.3 版本更新，进一步增强核心渲染功能

最近，虚幻引擎5.3更新，除了增强核心渲染、开发者迭代和虚拟制片的工具集外，还为渲染、动画和模拟引入了实验性的新功能，让设计师们有机会在UE5中测试扩展的创意工作流程，减少反复切换至外部应用需要。

对UE5核心渲染功能的改进

在这个版本中，继续完善了UE5的所有核心渲染功能，以实现一直以来的目标：使开发者能够更轻松、更高效地利用它们在次世代主机上实现以60fps帧率运行的游戏。这些改进还为线性内容创作者提供了更优质的结果和更强大的性能。

具体而言，Nanite在处理植被等遮罩材质时有了更快的性能，并且新的“显式切线”选项进一步扩充了其可呈现的表面类型；另一方面，使用硬件光线追踪的Lumen也扩展了功能，包括支持多重反射，以及在主机上取得了更快的性能。

其他取得了显著改进的方面包括虚拟阴影贴图（VSM）（现已可用于生产）、时序超级分辨率（TSR）、毛发Groom、路径追踪和Substrate。

多进程烘焙

另一项有用的改进是，将内容从UE内部格式转换为平台特定的格式时，开发者现在可以利用额外的CPU和内存资源，大幅缩短从构建农场服务器或本地工作站取得烘焙输出所需的时间。

启用多进程烘焙后，子进程会启动，与主进程一起执行部分烘焙工作。开发者可以选择要在一台机器上运行多少个子进程。

电影摄像机绑定导轨

现在，新的电影摄像机绑定导轨Actor使电影制作者能够模拟传统摄像机沿着轨道或在摄影车上移动镜头的工作流程和结果。

电影摄像机绑定导轨提供了比现有绑定导轨更精细的控制能力，包括在路径的不同控制点上编排摄像机旋转角度、焦距和对焦距离等设置。它同时支持编辑器内工作流程和虚拟摄像机工作流程。

对虚拟摄像机的改进

说到虚拟摄像机，该系统在这个版本中的改进包括：可直接在iPad上审核镜头试拍，以加快迭代速度；同时向不同的团队成员传输不同的虚拟摄像机输出（例如，提供给摄像机操作员的输出具有摄像机控件，而提供给导演的则没有），为虚拟摄像机的协作拍摄提供了便利；以较慢的帧率录制，然后以正常速度回放，以便更轻松地捕捉快速移动的动作。

实验性功能

除了这些对核心工具集的更新外，虚幻引擎5.3还引入了许多激动人心的实验性新功能，预计会在未来的版本中进一步完善。

电影质量级的体积渲染

稀疏体积纹理（SVT）和异构体积路径追踪这两项新功能引入了一系列新能力，可实现烟雾和火焰等体积效果。

稀疏体积纹理存储了代表体积介质的烘焙模拟数据，可以在Niagara中模拟它们，或从其他3D应用程序创建的OpenVDB（.vdb）文件中导入它们。

此外，作为路径追踪器中的实验性功能，现在还为渲染体积提供了更全面的支持。可以直接在UE5中为电影、影片、电视剧和其他形式的线性内容作品提供高质量体积渲染（包括全局光照、阴影和散射）。

游戏和虚拟制片等实时用例也可以开始尝试使用SVT实现体积元素的回放，但目前在性能上存在局限性，并且效果在很大程度上取决于内容。

正交渲染

从UE5.3开始引入正交渲染，这有助于实现建筑和制造业项目的可视化，同时也允许游戏使用正交投影作为一种风格化的摄像机选项。

为了在透视和正交投影之间取得平衡，关注了引擎的多个方面。现在，UE5的大多数现代功能（包括Lumen、Nanite、阴影和时序超级分辨率）预计都能与之兼容。在虚幻编辑器中，用户也可以使用正交渲染，这使他们能够在实时环境中更新。

骨骼编辑器

新推出的实验性骨骼编辑器能让动画师用各种工具处理骨骼网格体，包括绘制蒙皮权重。

无论是建立快速原型还是最终绑定，有了这项功能，仅通过虚幻编辑器，就可以执行更多角色工作流程，无需在DCC应用之间来回切换。

结合了ML模拟并基于面板的Chaos布料

为了能够将更多创意工作流程直接引入虚幻引擎，这个版本还对Chaos布料做出了一些更新。

此版本推出了新的布料面板编辑器和新的蒙皮权重传递算法，并添加了XPBD（经过扩展并基于位置的动力学）约束，为将来在引擎中生成布料奠定基础。这提供了一种非破坏性的布料模拟工作流程，可以用速度换取精度。此外，使用基于面板的布料可以使模拟效果更美观。

现在，通过将新的布料面板编辑器与ML变形器编辑器搭配起来使用，还可以在引擎中模拟和缓存布料。

nDisplay对SMPTE ST 2110标准的支持

最后，为了迎接下一代LED制片舞台，利用NVIDIA硬件和Rivermax SDK，为nDisplay添加了对SMPTE ST 2110标准的实验性支持。这奠定了一系列硬件配置的基础，为LED舞台开辟了新的可能性——最令人兴奋的配置是为每台摄像机视锥分别分配专用设备，最大限度地提高渲染分辨率和帧率，并实现比以往更复杂的场景几何体和光照。